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EN 438-3-2005 装饰用高压层压制件(HPL).基于热固性树脂的薄板材(通常称为层压制件).第3部分:用于粘结支撑基质的不足2毫米厚的层压制件的分类和规范

作者:标准资料网 时间:2024-05-21 14:05:00  浏览:9042   来源:标准资料网
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【英文标准名称】:High-pressuredecorativelaminates(HPL)-Sheetsbasedonthermosettingresins(usuallycalledlaminates)-Part3:Classificationandspecificationsforlaminateslessthan2mmthickintendedforbondingtosupportingsubstrates;GermanversionEN438-3
【原文标准名称】:装饰用高压层压制件(HPL).基于热固性树脂的薄板材(通常称为层压制件).第3部分:用于粘结支撑基质的不足2毫米厚的层压制件的分类和规范
【标准号】:EN438-3-2005
【标准状态】:现行
【国别】:
【发布日期】:2005-04
【实施或试行日期】:
【发布单位】:欧洲标准学会(EN)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:规范(验收);层压树脂;高压层压制件;数字的;规范;质量保证;板条;板材;材料;火焰表面传播;分类系统;特性;特性;层压薄板;定义;装饰的;试验要求;建筑用纤维板;划痕;装饰;塑料;人造树脂;设计;装饰材料;热固的;检验;静电学;厚度;分类;覆层;内部装饰;树脂;尺寸稳定性;塑料薄膜;薄板材;名称与符号;试验;内装修;尺寸;耐光性;高压;精整;叠层板材;基底材料;作标记;适用性等级;装饰层压板;装饰覆层;字母的;家具;高压板
【英文主题词】:Alphabetical;Applicabilityclasses;Artificialresins;Basematerials;Boards;Characteristics;Classification;Classificationsystems;Coatings;Decorations;Decorative;Decorativecoatings;Decorativelaminates;Decorativematerials;Definition;Definitions;Design;Designations;Dimensionalstability;Dimensions;Electrostatics;Fibrebuildingboard;Finishes;Furniture;Highpressure;High-pressureplates;HPL;Inspection;Interiordecorating;Interiordecoration;Laminatedsheets;Laminates;Laminatingresins;Lightresisting;Marking;Materials;Numeric;Panels;Pastingtogether;Plasticsheets;Plastics;Properties;Qualityassurance;Resins;Scratches;Sheets;Specification;Specification(approval);Surfacespreadofflame;Testing;Testingrequirements;Thermosetting;Thickness
【摘要】:
【中国标准分类号】:G33
【国际标准分类号】:83_140_20
【页数】:16P.;A4
【正文语种】:英语


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基本信息
标准名称:硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法
英文名称:Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
中标分类: 冶金 >> 金属理化性能试验方法 >> 金属无损检验方法
ICS分类: 电气工程 >> 绝缘流体 >> 绝缘流体综合
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:2004-02-05
实施日期:2004-07-01
首发日期:2004-02-05
作废日期:1900-01-01
主管部门:国家标准化管理委员会
提出单位:中国有色金属工业协会
归口单位:全国半导体材料和设备标准化技术委员会
起草单位:洛阳单晶硅有限责任公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所
起草人:蒋建国、屠妹英、贺东江、章云杰
出版社:中国标准出版社
出版日期:2004-07-01
页数:16开, 页数:5, 字数:9千辽
书号:155066.1-20772
适用范围

本标准规定了由测量硅片间隙氧含量的减少量来检验硅片氧沉淀特性的方法原理、取样规则、热处理程序、试验步骤、数据计算等内容。本标准用于定性比较两批或多批集成电路用硅片间隙氧沉淀特性。

前言

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所属分类: 冶金 金属理化性能试验方法 金属无损检验方法 电气工程 绝缘流体 绝缘流体综合

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